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薄膜测量

薄膜测量

薄膜测量系统是基于白光干涉的原理来确定光学薄膜的厚度。白光干涉图样通过数学函数被计算出薄膜厚度。对于单层膜来说,如果已知薄膜介质的n和k值就可以计算出它的物理厚度。 AvaSoft-Thinfilm应用软件内包含有一个大部分常用材料和膜层n和k值的内置数据库。 AvaSoft-Thinfilm系统可以测量的膜层厚度从10 nm到50 um,分辨率可达1 nm。 薄膜测量应用于半导体晶片生产工业,此时需要监控等离子刻蚀和沉积加工过程。还可以用于其它需要测量在金属和玻璃基底上镀制透明膜层的领域。其他领域中,金属表面的透明涂层和玻璃衬底也需要严格测量。 AvaSoft-Thinfilm应用软件能够实时监控膜层厚度,并且可以与其他AvaSoft应用软件如XLS输出到Excel软件和过程监控软件一起使用。 薄膜测量的典型装置如图所示。


薄膜测量常用配置:

光谱仪AvaSpec-2048光谱仪,UA光栅(200-1100 nm),DUV镀膜,DCL-UV/VIS灵敏度增强透镜,100?m狭缝,OSC-UA消二阶衍射效应镀膜
测量膜厚范围10 nm - 50 ?m,1 nm分辨率
软件AvaSoft-Thinfilm应用软件
光源AvaLight-DHc紧凑型氘-卤素光源
光纤1根FCR-7UV200-2-ME反射光纤探头
附件THINFILM-STAGE支架,用于固定反射光纤探头 Thinfilm-standard Tile with 3 calibrated different thickness layers of SiO2


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