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镀膜过程监控

发布时间:2019-08-02 08:21:15

在镀膜过程中需要对一些重要参数进行监控,如膜层厚度、成分、表面光洁度、光透射率、反射系数、偏振特性等,都可以利用光谱学和双光束干涉的方法进行测量。光纤的使用为监控过程提供了灵活的工具,可以使光方便地进入或导出远方的真空超净室,而且可以同时为膜层分析提供多个几何量的测量选择。膜层的照明和发光的探测可以在相对于膜层的不同光纤位置进行,可以测量镜面反射、漫反射、传输、偏振、干涉、荧光和拉曼散射等。可以利用多根光纤同时监测多个参数,或者在不同的空间位置或掩模条件下同时测量。

用几个适宜结构的光纤探头,就可以在线监测生产的全过程。在一些场合中,可以通过监测离子源(如等离子源)的光谱辐射来确定镀膜过程中的条件效率。

对于大多数此类监测系统来说都需要专门的实验布局,我们可以为您提供适合您应用的实验布局,这里仅举一个应用系统的例子。

      在这里使用一个反射型光纤探头来在线监测镀膜生产过程。光纤通过过真空装置进入真空室,然后传到反射探头上。反射光经过另一个过真空装置,进入光谱仪的一个测量通道。反射型探头可以用SMA接头拆下。还可以再增加一个光谱仪通道,用来进行参考测量或补偿光源本身的波动对测量结果的影响。


光谱仪

AvaSpec-ULS2048(200-1100nm)

软件

AvaSoft-Full软件和XLS或PROC应用软件

光源

AvaLight-DH-S-BAL均衡光谱型氘-卤素灯

光纤探头  

1根FCR-7UV200-2-ME反射型光纤探头,1根FC-UV600-2光纤和1根FC-UV200-        2光纤

过真空装置

FC-VFT-UV200和FC-VFT-UV600